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第281章 光刻机难关

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李浩通过他的特殊眼镜,可以看到孙凯正在学习光刻机与芯片生产的知识。

这真是学到老活到老,知识让人受用无穷。没想到孙凯这么努力的汲取知识。

李浩看到他已经有些恢复的头顶,又稀疏了很多。估计主持光刻机项目后,给他造成的压力很大。

孙凯看到李浩和王容哲进入到他的办公室。邀请他们坐下后,笑着询问道:“李总,你们这次来是有什么事情吗?”

李浩直接提问道:“我想了解一下光刻机项目的进展,特别是光刻机项目被哪些难关阻挡。

就是我们公司的科学家无法解决,我会尽量想办法求助中科院等研究机构,让他们帮我们解决这个问题。”

“这个真是太好了,有几项技术我们一直都没有获得突破。我向您汇报一下。”孙凯面带喜悦的说道。

他立刻就把光刻机项目遇到的难关说了出来。

李浩听完之后,他归纳总结,公司遇到的难关。主要是两个方面还有差距。一个是材料方面,一个是控制系统。

控制系统主要是精细控制,达不到要求。他们加工芯片精度要控制在一纳米。这个也就比原子稍微大一些,任何一点控制系统反应迟钝,都会造成灾难性的后果。

而现在光刻机控制系统的信息处理速度却达不到要求。必须要接收到传感器信息,之后经过系统判断,再传导给光刻机的控制机构。

整个反馈需要的时间太长,主要是没有先进芯片,构成控制系统的核心。导致光刻机加工芯片失败。

这点还可以通过技术手段解决,李浩现在就能想到一个办法,就是把智能芯片运用到这里。

通过刚才王容哲所做的实验,他就知道智能芯片一定会解决这个问题。

第二个难关就是材料问题,由于他们设计的光刻机主要是针对碳基芯片进行加工。

它的结构和平常的光刻机还是有区别的。最关键的就是架设叠加激光器的支架。

这个支架设计指标是让激光去做各种动作,他必须要比人的手指还灵活,反应的时间也要尽可能的短。

支架的结构设计通过项目组科研人员共同努力已经解决,但它需要一种摩擦系数尽可能小的材料,现在还没找到理想的材料。

这只是光刻机项目遇到的普通难关,李浩觉得随着时间的发展,这些问题早晚会得到解决。

最为棘手的问题就是光栅材料问题。现在郭建濯已经研发出稳定的光栅。

但是它有一个特点,必须在曝光之后,短时间内控制光栅内部的晶体结构发生变化。

这需要极为精细的电流激发,解决晶体结构产生的问题,这对控制系统要求很高。

如果不成功,无法解决光栅内部晶体结构的影响,那它控制光路径的效果也随之失效,整个芯片就无法完成加工。

王容哲听到冯凯说完,他突然插话道:“这几个问题解决方法很简单。至于困扰你们这么长时间。”

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